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JKZC-STC600高 真空雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄 膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄 膜等。JKZC-STC600 雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍和兩個(gè)電源，一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。

PZT-FJH30 /3真空、空氣,氣氛，硅油壓電陶瓷高壓極化裝置（30KV以下壓電陶瓷及壓電薄膜1-3片試樣）主要用于30KV以下壓電陶瓷或其它壓電材料的極化處理，廣泛應(yīng)用于高校及從事壓電材料研究或生產(chǎn)的科研及生產(chǎn)單位。 該壓電測(cè)試裝置具備空氣、真空、氣氛等多種極化分式，油浴極化同時(shí)或單獨(dú)極化1-3片試樣，可以測(cè)試方型、圓、環(huán)等異性材料構(gòu)件，而且可以極化不同性質(zhì)壓電薄膜材料。是國(guó)內(nèi)目前壓電研究

CCDSW-300型CCD型精密絲網(wǎng)印刷機(jī)通過以真空吸力固定膜片于多孔 CCD 工作臺(tái)上，采用 機(jī)器內(nèi)置視覺對(duì)位系統(tǒng)，通過智能獲取對(duì)位點(diǎn)并自動(dòng)對(duì)位.然后驅(qū)動(dòng)刮刀和回墨刀在絲印網(wǎng)板上進(jìn)行絲印工作，高精度伺服電機(jī)定位。是一款應(yīng)用連續(xù)生產(chǎn)適用產(chǎn)業(yè)：適用于高精密CCD 影像自動(dòng)對(duì)位網(wǎng)印作業(yè)，在陶瓷薄膜或基片，撓性電路板，手機(jī)視窗玻璃，筆記型電腦螢?zāi)徊Ａе袕V泛使用，是生產(chǎn)企業(yè)和科研所的重要設(shè)備。

TBJ-01型實(shí)驗(yàn)室小型涂布機(jī)該機(jī)器可對(duì)材料進(jìn)行涂液制膜薄膜、薄膜等材料涂覆、等工藝，廣泛應(yīng)用于化工、材料科學(xué)以及微納加工等領(lǐng)域。實(shí)驗(yàn)室小型涂布機(jī)可以反復(fù),持續(xù)地制備出光滑平整而無(wú)暇疵的測(cè)試樣品.方便實(shí)驗(yàn)人員在不同的底材上精確的涂布，減小以及消除了由于涂布速度以及壓力不同等人為因素造成的誤差。涂布頭采用專用刮刀，模仿大型涂布機(jī)頭確保實(shí)驗(yàn)出來(lái)產(chǎn)品與生產(chǎn)型涂布質(zhì)量吻合，涂布頭可90度快速打開以便每次實(shí)

YDM-200A型壓電薄膜裝置是一款底部加熱型小型壓電薄膜制備成套系統(tǒng)是由薄膜成型機(jī)，高精度粘度儀，干燥箱，軋輥機(jī)組合而成的全套設(shè)備，從原料配置，到最后合成，其最高加熱溫度可以達(dá)到200℃。采用真空吸附來(lái)固定基底，頂部安裝有活性碳過濾系統(tǒng)，可以保護(hù)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。此款設(shè)備特別適合高溫涂覆聚合物膜和導(dǎo)電陶瓷膜的制樣，是目前高等院校和實(shí)驗(yàn)開展*材料薄膜研究的重要設(shè)備之一。